硅片切割-硅片減薄-晶圓研磨厚度規(guī)格按客戶需求定制
發(fā)布時間:
2024-02-26
SC-1清洗液是能去除顆粒和有機物質(zhì)的堿性溶液。由于過氧化氫為強氧化劑,能氧化硅片表面和顆粒。顆粒上的氧化層能提供消散機制,分裂并溶解顆粒,破壞顆粒和硅片表面之間的附著力,而脫離硅表面。過氧化氫的氧化效應也在硅片表面形成一個保護層,阻止顆粒重新粘附在硅片表面。隨后將硅片放入到10%的HF溶液中浸泡2分鐘,可以將硅片表面自然生成的氧化膜去除并抑制氧化膜再次形成,同時HF酸還可以將附著在氧化膜上的金屬污染物溶解掉。
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